કઈ પ્રક્રિયામાં સૌથી ઓછો એન્થાલ્પી ફેરફાર સંકળાયેલ છે તે પસંદ કરો:

હેલોજનની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી (electron affinities) $F = 322, Cl = 349, Br = 324, I = 295 \ kJ \ mol^{-1}$ છે. $F$ ની સરખામણીમાં $Cl$ માટેનું ઊંચું મૂલ્ય શેના કારણે છે :-

$O \rightarrow O^{-}$ અને $O \rightarrow O^{2-}$ માટે ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પીના મૂલ્યો અનુક્રમે $-141 \ kJ \ mol^{-1}$ અને $702 \ kJ \ mol^{-1}$ છે,તો તમે $O^{-}$ ને બદલે $O^{2-}$ સ્પીસીઝ ધરાવતા મોટી સંખ્યામાં ઓક્સાઇડના નિર્માણ માટે શું કારણ આપી શકો?
(સૂચન: સંયોજનોના નિર્માણમાં લેટીસ ઉર્જાના પરિબળને ધ્યાનમાં લો).

નીચે આપેલા તત્વોની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પીનો સાચો ક્રમ કયો છે?
$A$. $Ar$ $B$. $Br$ $C$. $F$ $D$. $S$
નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સૌથી યોગ્ય વિકલ્પ પસંદ કરો:

નીચેનામાંથી કઈ પ્રક્રિયામાં ઉર્જાનું શોષણ થાય છે?

ત્રણ હેલોજન $X$,$Y$ અને $Z$ ની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પીના મૂલ્યો ($kJ \ mol^{-1}$ માં) અનુક્રમે $-349$,$-333$ અને $-325$ છે. તો $X$,$Y$ અને $Z$ અનુક્રમે શું છે?